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超快退磁

November 2, 2026AIC Engineering
Ultrafast Demagnetisation / 超快退磁

铁膜越薄,越容易被激光脉冲退磁。杜伊斯堡-埃森大学的研究人员与柏林亥姆霍兹中心及其他合作伙伴发现,关键在于材料界面的磁序。从长远来看,这些发现有助于开发使用超短激光脉冲写入信息的磁性数据存储新技术,相关研究结果已正式发表在科学期刊《Advanced Science》上。

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铁膜越薄,越容易被激光脉冲退磁。杜伊斯堡-埃森大学的研究人员与柏林亥姆霍兹中心(Helmholtz-Zentrum Berlin)及其他合作伙伴发现了其中的原因:关键在于材料界面的磁序。从长远来看,这些发现有助于开发磁性数据存储的新技术。研究结果已发表在科学期刊《Advanced Science》上。

从照片、视频到文档,海量数据存储在大型数据中心的硬盘中。这些设备使用微小的磁性区域,其方向决定了存储的信息。但未来如何更快地存储数据?一种可能的方法涉及超短激光脉冲,它可以在极短的时间内改变材料的磁序。因此,杜伊斯堡-埃森大学(UDE)第1242号协同研究中心的一个团队与柏林亥姆霍兹中心合作,研究了铁膜的厚度如何影响其所谓的超快退磁。在此过程中,激光脉冲导致材料在极短的时间内失去部分磁序。

研究结果:铁层越薄,效果越强。在仅2纳米(相当于百万分之二毫米)的厚度下,即使激光激发的强度保持不变,其退磁效果也比16纳米厚的铁层强约75%。

在研究中,研究人员使用了柏林亥姆霍兹中心BESSY II电子储存环上专门的FemtoSpeX X射线源。该设施使研究人员能够使用超短X射线脉冲观察极快的磁性变化。该研究的概念、样品制备、数据分析以及界面磁序的理论研究由杜伊斯堡-埃森大学(UDE)与柏林弗里茨·哈伯研究所(Fritz Haber Institute)、康斯坦茨大学(University of Konstanz)、维尔道应用技术大学(TH Wildau University of Applied Sciences)以及SLAC国家加速器实验室的合作伙伴共同完成。

从长远来看,这些发现有助于开发使用超短激光脉冲写入信息的磁性存储介质。

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